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高解析度FEB测量装置
CG 6300
●高解析度能够高精度测量7 nm generation devices
●提高深槽·孔的尺寸测量和材料对比度的可视性
●通过选择性能强化二次电子和被背向散射电子信号来提高对比度成像
●包括高速扫描在内的多种扫描方式取得减少带电的清晰图像
●搭载新设计的高速芯片载台搬送系统
●提高深槽·孔的尺寸测量和材料对比度的可视性
●通过选择性能强化二次电子和被背向散射电子信号来提高对比度成像
●包括高速扫描在内的多种扫描方式取得减少带电的清晰图像
●搭载新设计的高速芯片载台搬送系统
高解析度FEB测量装置
高解析度FEB测量装置（CD-SEM）CG6300通过电子光学系统的全新设计提高了解析度，并进一步提高了测量可重复性和图像画质
产品简介
高解析度FEB测量装置（CD-SEM）CG6300 通过电子光学系统的全新设计提高了解析度，并进一步提高了测量可重复性和图像画质。
特点
1. 高解析度能够高精度测量7 nm generation devices
2. 提高深槽·孔的尺寸测量和材料对比度的可视性
3. 通过选择性能强化二次电子和被背向散射电子信号来提高对比度成像
4. 包括高速扫描在内的多种扫描方式取得减少带电的清晰图像
5. 搭载新设计的高速芯片载台搬送系统
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